我院五名教授入选“爱思唯尔”2019年高被引学者榜单

      爱思唯尔于2020年5月7日正式发布“ 2019年中国高被引学者”榜单 。本次国内共有2163位学者入选,武汉大学共27位入选,国内牙医学领域17位学者入选。我院张玉峰、彭彬、王贻宁、范兵、边专5位教授入选了该榜单。

      爱思唯尔“中国高被引学者榜单” 以Scopus数据库(全球领先的同行评议文摘引文索引库)作为统计来源,采用了上海软科开发的方法。入选的高被引学者需满足以下条件:1.立足国内——Scopus收录的科研成果,作者当前署名机构为中国(大陆)机构,且现职工作单位在中国。 2.注重贡献——仅统计作为第一作者和通讯作者发表的科研成果(除论文类型成果,也包含行业会议成果和图书专著等多种同行评议成果)。3. 注重质量——第一作者+通讯作者文献需要满足至少有一篇全球前1%高被引文献,或是学者的FWCI高于1。4. 学科比较——选用Scopus的ASJC标准学科,其中工程学科进一步细分为14个学科。每个学科的上榜学者数与该学科参与的中国作者数量相关。


科研办 徐新灏